RO反滲透裝置技術相關解析
【純水設備hnxinmao.cn】反滲透裝置（簡(jian)稱RO裝置(zhi)）在除(chu)鹽(yan)系統中(zhong)(zhong)屬關鍵設備，裝置(zhi)利用(yong)膜分離技術除(chu)去水(shui)中(zhong)(zhong)大(da)部(bu)份離子、SiO2等，大幅降低TDS、減輕后續除鹽設(she)備(bei)的運(yun)行負(fu)荷。RO是將(jiang)原水中(zhong)的一部(bu)分沿與膜(mo)垂直的方向(xiang)(xiang)通(tong)(tong)過(guo)膜(mo)，水中(zhong)的鹽類和膠(jiao)體物(wu)質(zhi)將(jiang)在膜(mo)表面濃縮，剩余(yu)一部(bu)分原水沿與膜(mo)平(ping)行的方向(xiang)(xiang)將(jiang)濃縮的物(wu)質(zhi)帶(dai)走，在運(yun)行過(guo)程中(zhong)自清洗(xi)。膜(mo)元件的水通(tong)(tong)量越大，回收率越高(gao)則(ze)其膜(mo)表面濃縮的程度越高(gao)純水設備(bei)，由(you)于濃縮作用，膜(mo)表面處的物(wu)質溶(rong)度與主體水(shui)流中物(wu)質濃度不同，產生(sheng)濃差極化(hua)現象。濃差極化(hua)會(hui)使膜(mo)表面鹽的濃度高，增(zeng)大膜(mo)的滲透壓(ya)，引起鹽透過(guo)率增(zeng)大，和為提高給水(shui)的壓(ya)力而(er)需(xu)要多消耗能量，此時應采用清洗的方法進行恢復。
一、結構形(xing)式：
反(fan)滲透裝(zhuang)置由復合膜元件、玻璃鋼壓力容器(qi)、碳鋼滑架和儀表(biao)控(kong)制(zhi)柜組成。儀表(biao)控(kong)制(zhi)柜裝(zhuang)備電導、流量、壓力等各種(zhong)儀表(biao)，便于(yu)用戶隨時(shi)檢測和實現裝(zhuang)置運(yun)行自動化(hua)。
二、性能參數表:
1、性能(neng)參數(shu)表
2、進水水質指標:
為了保證反滲透裝置安全正常的運行，工業純水設備進裝置的原水進行適當處理和調整以達到下列指示:
三、裝置安裝:
反(fan)滲透(tou)裝置的安裝必須按下列條件執(zhi)行：
１．裝置運到現場后，應放置于室內，周圍環境溫度不得低于5℃，不得高于38℃。當溫度高于35℃時，應加強通(tong)風措施(shi)。
２．裝(zhuang)置到達后，應(ying)在一個月內安裝(zhuang)完畢，并應(ying)立即(ji)進行通(tong)水(shui)試車運行。
３．裝置(zhi)在(zai)未進行通(tong)水(shui)(shui)試車之前(qian)，任何(he)閥(fa)門均(jun)不得開(kai)啟(qi)，實驗(yan)室純水(shui)(shui)設(she)備(bei)以免保護溶(rong)液流出，致使元件損(sun)壞。
４．裝置就位后(hou)，應調整裝置支承點(dian)，使組件處于(yu)基本水平(ping)的位置，且(qie)與基礎接觸可(ke)靠。
５．裝置與供(gong)(gong)水泵相接(jie)的(de)管路及(ji)閥門(men)在連(lian)接(jie)之(zhi)前應(ying)進行脫脂處(chu)理(li)，供(gong)(gong)水泵過流部份也應(ying)進行脫脂處(chu)理(li)。
６．裝置的產水輸出管最大輸出高度應小于8米(mi)。
注：2、3點僅針對RO裝置內已安(an)裝膜元件的裝置。
四、調試步驟:
1. 對裝置的(de)進水進行(xing)分(fen)析、測試，結果表明符合(he)進水要求，方可進行(xing)裝置通水調(diao)試。
2. 對供水泵的壓力控制，水質自(zi)動監測系統進行調整。
3. 檢查裝(zhuang)置(zhi)所有(you)(you)管道(dao)之間連接是(shi)否(fou)完(wan)善、壓(ya)力表是(shi)否(fou)齊全、低壓(ya)管道(dao)連接處是(shi)否(fou)緊密(mi)，有(you)(you)否(fou)短缺。
4. 開啟泵前排(pai)放(fang)閥，啟動預處理設備，并調(diao)整至供(gong)水量大于裝(zhuang)置進水量。
5. 全開各壓(ya)力表開關和進(jin)水閥(fa)、濃排(pai)(pai)閥(fa)、產(chan)水排(pai)(pai)放閥(fa)。
6. 關(guan)(guan)閉泵前排放(fang)閥(fa)，待組件內(nei)充滿(man)水(shui)后(hou)，關(guan)(guan)閉裝置(zhi)進水(shui)閥(fa)。
7. 待高壓泵進口壓力大于0.2MPa，純水設備啟動高壓(ya)泵，并(bing)緩(huan)緩(huan)開啟裝置(zhi)進水閥同時關閉(bi)濃排(pai)閥，控制(zhi)裝置(zhi)總壓(ya)差小于0.3MPa，產水排放2分鐘后(hou)關閉產排閥，運(yun)行15分鐘，并查各(ge)高、低壓管路、儀表是否工作正常。
8. 調整進水閥、濃水出口閥使產水、濃水比例為 3 : 1 。
9. 檢(jian)測產(chan)品水電導率，符合要求時先開啟產(chan)品水出水閥，再關(guan)閉產(chan)水排放閥。
10. 調試過程應注意事項:
10-1調試過程中進水壓力不得大于1.5MPa。
10-2如進水溫度高于、低于25℃時，應根據水溫(wen)--產水量曲線進(jin)行(xing)修(xiu)正，控制回收率為75 ％。
10-3裝置連續運行4小時后，脫鹽率(lv)不能達到設(she)計脫除(chu)率(lv)應逐(zhu)一檢查(cha)裝置中每個組(zu)件的脫鹽率(lv)，確(que)定產生故障(zhang)的組(zu)件后加(jia)以更換元件。
10-4發現高(gao)壓管路有漏水需排除時，裝置應(ying)卸壓，嚴禁高(gao)壓狀況下(xia)松動高(gao)壓接(jie)頭。
五、裝置的運行操作管理:
1．嚴格(ge)控制進水水質，保證裝置在符合進水指標(biao)要求的水質條件(jian)下運行。
2．操作壓力控(kong)制(zhi)，應(ying)在滿(man)足產水量與水質的(de)前(qian)提(ti)下(xia)，取盡量低的(de)壓力值(zhi)，這樣有利于(yu)降低膜的(de)水通量衰減，減少膜的(de)更換率(lv)。
3．進水溫度控制，應根據實際用水量，取鄰界壓力(進水(shui)壓力低于該值脫鹽率(lv)產生明(ming)顯下(xia)降的壓力值)不能滿(man)足(zu)產水量(liang)與水質要(yao)求的至低溫(wen)(wen)度來作(zuo)為該時間階段內的進水溫(wen)(wen)度。這樣可以降低膜水量(liang)的衰減。
4．排放量控制，由于水溫、操作壓力等因素的變化，使裝置的產水量也發生相應的變化，這時應對排放量進行調整，純水設備控制(zhi)排放量與(yu)產水量之間(jian)比例為(wei)1:2.5-1: 3，否則將影響裝置的脫(tuo)鹽率。
5．夏季水溫偏高的操作對策:
5-1在(zai)保(bao)證后處理(li)對進水含鹽量要求(qiu)的前提下(xia)，降低(di)操(cao)作壓力。實(shi)施減壓操(cao)作。此對策為(wei)優選對策。
5-2根據供水量要求，輪流關停反滲透(限于(yu)裝有二(er)臺以(yi)上反滲(shen)透的工廠(chang))，但關停時間不得大(da)于24小時(夏季)，否則容易造成膜(mo)面(mian)細菌孳生(sheng)，增加壓降。
6．裝置不得長時間停運，每天至少運行2小時。如準備停機72小時以上(shang)，應(ying)用(yong)化學清洗裝置(zhi)向組(zu)件內充(chong)裝1%亞硫酸氫(qing)鈉和18%甘(gan)油實施保護。
8．反滲透每次停機和啟動都應讓裝置在進水壓力小于0.4MPa條(tiao)件下沖洗(xi)15分(fen)鐘。
9．操作工應在每2小時對(dui)運行參數進行記錄，主(zhu)要內(nei)容應(ying)包(bao)括:
進水: PH值、電導率(lv)、壓力、SDI、水溫。
產水: 電導率、流量、PH。
濃水: 流量、壓力。以及各段進水壓力。
10．嚴禁未經培訓人員上崗操作。
六、故障分析及排除方法:
１.裝(zhuang)置(zhi)運行異常及對策
２.反滲透組(zu)件部份異常及對策：
３.ＲＯ組件污染后(hou)癥狀和對策(ce)：
4．清洗配方:
5．反滲透需進行清洗的條件和注意事項:
5-1裝置運行時如出現以下任一情況,則必須立即進行化學清(qing)洗。(在(zai)標準(zhun)條件(jian)下,即(ji)壓力(li)1.5MPa,水溫(wen)25℃,回收(shou)率(lv)75％)。
(a)裝置總壓差比運行初期增加0.15～0.2MPa時(shi)。
(b)裝置脫鹽率比上次清洗后下降了三個百分點時。 (c)裝置的總產水(shui)量比上(shang)次清洗后(hou)下(xia)降了10％以上時。
(d)即使上述三種情況未曾出現,通常(chang)也應3～6個月(yue)清(qing)洗(xi)一(yi)次。
5-2注意事項:
(a)清洗時去除CaCO3結垢和重金屬(shu)污(wu)染采用(yong)酸洗配方,去除有機(ji)物污染采用堿洗配方。
(b)清洗液溫度高可達30℃，實驗室純水設備壓(ya)力(li)高可達3.5Kg/Cm2,每(mei)一段清(qing)洗時間為45分鐘(zhong),用反(fan)滲透產水或無離子水配制溶液,溶液混合(he)要(yao)均勻。
(c)按規定時間清洗完之后,即用保(bao)安過濾器(5微米(mi))后的過濾水進行沖(chong)洗。沖(chong)洗時(shi)間一般為30～60分鐘(zhong), 并將反滲透出口水放空排掉。
(d)確認沖(chong)洗好之后，馬上投入(ru)正常運行，化(hua)學清(qing)洗后至(zhi)重新投入(ru)運行時間不得超過一天。
6．清洗方法:
6-1清洗第一段,拆開各清洗回(hui)流(liu)口卡套管堵頭,換上(shang)卡(ka)套管接頭,關(guan)閉濃水出口閥;
6-2開啟清洗泵出口閥、 啟動清洗泵、并調節清洗泵回流閥至輸出流量80 m3/h(被清洗組(zu)件) ,且壓(ya)力表(biao)表(biao)壓(ya)不大(da)于0.4MPa,循環45分(fen)鐘(zhong),清洗溫度不大于30℃。
6-3清洗第二段,關閉第一段清洗液(ye)總回流(liu)口。
6-4重復6.2動(dong)作。
6-5清洗結束后,各閥(fa)門轉入正常運行狀態(tai),開(kai)啟濃水,產品水(shui)排放閥,關閉清(qing)洗(xi)裝置(zhi)各閥。
6-6裝置進行低(di)壓沖(chong)洗(xi)。
7．膜的封存方法:
7-1利用清洗裝置,配制好膜的保存(cun)溶液(ye)。
7-2關閉濃水出(chu)口(kou)閥(fa)。打開清洗(xi)液進口(kou)、清洗(xi)液出(chu)口(kou)閥(fa)，開啟清洗(xi)透過液出(chu)口(kou)閥(fa)。
7-3操作步驟同6.2, 但(dan)清洗(xi)泵流(liu)量的裝置總壓差以不(bu)大于0.4MPa為限(xian)。
七、組件拆裝注意事項:
1． 從組件進水相反方向取出元件, 取出時元(yuan)件必須平行抽出,不(bu)得左(zuo)右搖動。
2． 裝入元件應從進水方向裝入,并均勻(yun)用力(li)推入(ru),不得強行(xing)用硬物敲入。
3． 拆卸好的元件應立即垂直浸沒于保存溶液中, 不得干(gan)置于(yu)空氣中。
八(ba)、膜(mo)的保存
適用范圍：
1、安裝在壓(ya)力(li)容器(qi)中的反滲透膜元件的短期保存(cun)；
2、安裝在壓力容器中的反滲透膜元件的長期保存；
3、作為備件的反滲(shen)(shen)透膜元(yuan)件的干保存及反滲(shen)(shen)透系統啟動(dong)前的膜保存。
一、短期保存(cun)：
短期保存方法適用于那些停止運行5天(tian)以(yi)上30天以下的反滲透(tou)系(xi)統(tong)。此時反滲透(tou)膜(mo)元(yuan)件(jian)仍(reng)安裝(zhuang)在RO系統的壓力(li)容器內，具體(ti)步驟如(ru)下：
1、用給水沖洗反滲透系(xi)統，同時(shi)注(zhu)意將氣體(ti)從系(xi)統中完全排(pai)除；
2、將壓力(li)容器及相關(guan)(guan)管路充(chong)滿水后(hou)，關(guan)(guan)閉相關(guan)(guan)閥(fa)門(men)，防止氣體進入系統(tong)；
3、每隔5天按(an)上述方法沖(chong)洗一(yi)次。
二、長期停用保護
適用于停止運行30天以(yi)上，膜元件(jian)仍(reng)安裝在壓力(li)容器中的(de)反滲透(tou)系(xi)統。保護(hu)操作的(de)具體(ti)步驟如下：
1、清洗系統(tong)中的膜(mo)元(yuan)件；
2、用反滲透產水配制殺菌液（推薦采用1%的亞硫酸氫鈉）保留于系統(tong)中，應(ying)確認系統(tong)完全充滿。
3、如系統溫度低于27℃，應每隔30天用新的殺菌(jun)液進(jin)行(xing)2、3補(bu)的(de)操(cao)作；如系統溫度高于27℃，則應每隔(ge)15天更(geng)換一次保護液（殺(sha)菌液）。
4、在反滲透系統重新投入使用前，純(chun)水設備用(yong)低壓(ya)水(shui)沖洗系統一小(xiao)時，在恢(hui)復系統至正常操作前，應(ying)檢查并確(que)認產品水(shui)中不含有(you)任何(he)殺菌(jun)劑(ji)。
三、系統安裝前(qian)的膜(mo)元件保存：
膜元件出廠時，均真空封裝在塑料袋中，封裝袋中含有保護液。膜元件在安裝使用前的儲運及運往現場時，應保存在干燥通風的環境中，保存溫度以20-35℃為宜。應防止(zhi)膜元(yuan)件受到陽(yang)光直射(she)及避免接觸氧(yang)化性氣體。
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